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(2021.05) Kim TK et al. Journal of Hazardous Materials. Removal of tetramethylammonium hydroxide (TMAH) in semiconductor wastewater using the nano-ozone H2O2 process

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작성자 최고관리자 작성일21-03-19 19:05 조회421회 댓글0건

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학술지명Journal of Hazardous Materials 
교신저자조경덕
공동저자

Tae-Kyoung Kim, Taeyeon Kim, Inae Lee, Kyungho Choi, Kyung-Duk Zoh 

논문구분SCI
논문번호Volume 409, 123759
게재년월2021. 05

 

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